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KT--Z1650CVD 小型坩埚真空蒸镀仪

郑州科探仪器设备有限公司

会员指数：

企业认证：

价格：电议

所在地：河南郑州市

型号：KT--Z1650CVD

更新时间：2024-07-01

浏览次数：510

公司地址：郑州高新技术产业开发区西三环路289号6幢11单元3层73号

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产品简介

KT—Z1650CVD是一款小型坩埚真空蒸镀仪，也是台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金

公司简介

郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业，如今公司的产品已经遍布国内大多数实验室及科学院校，科探仪器已经成为老师同学和信任的品牌。公司以科技创新为主，服务社会为宗旨，积极设计开发新型材料制备设备，奉献于教育和科学，经过长期的研发和不断地技术积累，拥有热工，制造，控制相关技术10余项，为化学，物理，材料，电子，高分子工程，新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师同学强强联合，形成了有效的信息，技术交流平台，为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持！目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品，产品囊括实验电炉 CVD供气系统等离子清洗机小型离子溅射仪小型蒸镀仪石英管真空封口真空探针台半导体等。主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究，广销于各大院校，及材料研究所。公司与国内高校，科研院所有多层次的合作关系，建有开放实验室，相关领域的教授、工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念，依靠严谨的技术研发能力，科学合理的生产工艺，精益求精的制造要求，全心全意做好产品质量和服务工作，科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。

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产品说明

小型坩埚真空蒸镀仪KT-Z1650CVD

是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。

坩埚真空蒸镀仪蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远

低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。

SHAPE \* MERGEFORMAT

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以下是不同真空度不同镀膜时间镀铜样品图

说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771737832260197.png

原样品没有镀膜

说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732996198687.png

115A 100秒机械泵

说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732840196319.png

115A 100秒分子泵抽12分钟

说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732684194803.png

115A 120秒分子泵抽20分钟

真空度越高越不易氧化越接近金属本色

小型坩埚真空蒸镀仪技术参数

控制方式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
加热方式	数字式功率调整器
镀膜功能	0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率	≤1200W
输出电压电流	电压≤12V 电流≤120A
真空度	机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤10^-3Pa
挡板类型	电控
真空腔室	石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台	可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速	8转/分钟
样品蒸发源调节距离	70-140mm
蒸发温度调节	≤1800℃
支持蒸发坩埚类型	钨丝蓝带坩埚钨丝蓝钨舟碳绳
预留真空接口	KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展	机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）